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商品详情

项目名称

915MHz高功率MPCVD法大面积金刚石膜均匀沉积技术

单位名称

河北省激光研究所

项 目

负责人

姓名

职称

电话

项目简介

500字内)

该技术以75kW级915MHz高功率MPCVD装置为基础,通过对915MHz频率下等离子体的激发特性研究以及等离子体诊断,获得稳定可调的等离子体激发区域,建立稳定生产工艺,制备出大面积高品质金刚石膜。

主要技术指标:金刚石膜沉积面积直径达到5英寸(127mm),沉积厚度大于500µm,厚度偏差小于±5%,金刚石膜生长速率3.9-4.3µm/h。

知识产权情况

自主知识产权

成果成熟度

实验室阶段      小试阶段      中试阶段      市场化阶段    

成果转化方式

技术转让        技术开发      技术入股      股权投资

许可使用        合作开发     其他()

成果转化的融资需求金额

500万元

交易流程
  • 买家确定
    购买专利
  • 下单付款
  • 卖家办理
    公正
  • 金轩办理
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3、在办理文件副本请求书上签字盖章
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手续合格通知书
专利登记簿副本
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